在建党100周年来临之际，由中国电科和重庆市政府共建的联合微电子中心面向全球发布三套工艺PDK——130nm成套硅光工艺PDK、300nm氮化硅光电子工艺PDK、三维集成工艺PDK。

　　这是继去年5月发布180nm成套硅光工艺PDK之后，联合微电子中心在工艺平台建设和技术创新领域取得的又一重大突破，是全体员工坚守初心使命，以实际行动庆祝党的百年华诞的生动实践！

　　此次系列PDK的发布，标志着联合微电子中心成为国内首个基于8英寸工艺线同时开放硅基光电子、异质异构三维集成等四套工艺的光电集成高端特色工艺平台，器件性能和工艺能力处于国内领先、国际先进水平，具备面向全球客户提供光电微系统解决方案的能力。

　　【注】PDK，即Process Design Kit 工艺设计工具包，是面向集成电路特定工艺的设计包，能够实现工艺数据/模型与设计环境/工具的无缝集成，缩短集成电路设计周期，提高设计产能和效率。